合成
合成
使用的溶剂有,例如:
· 二氯甲烷
· 乙酸乙酯
· 醇类
· 乙腈
· 四氢呋喃
· 甲苯
· 二甲基甲酰胺
· 二甲基砜
除了通常的旋转蒸发器外,RVC系统也越来越多地用于圆底烧瓶。
高等锅炉以及水的蒸发时间是4 x 500毫升圆底烧瓶的12小时左右。由于设备的自动关闭(产品温度传感器)和编程的可能性,这个过程可以在无人看管的情况下运行(如果有必要,可以过夜)。
合成
合成
使用的溶剂有,例如:
· 二氯甲烷
· 乙酸乙酯
· 醇类
· 乙腈
· 四氢呋喃
· 甲苯
· 二甲基甲酰胺
· 二甲基砜
除了通常的旋转蒸发器外,RVC系统也越来越多地用于圆底烧瓶。
高等锅炉以及水的蒸发时间是4 x 500毫升圆底烧瓶的12小时左右。由于设备的自动关闭(产品温度传感器)和编程的可能性,这个过程可以在无人看管的情况下运行(如果有必要,可以过夜)。